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直流反应磁控溅射沉积a-C∶H薄膜的微结构和摩擦磨损行为

刘龙 周升国 王跃臣 刘正兵 马利秋

有色金属科学与工程2016,Vol.7Issue(1):41-47,7.
有色金属科学与工程2016,Vol.7Issue(1):41-47,7.DOI:10.13264/j.cnki.ysjskx.2016.01.009

直流反应磁控溅射沉积a-C∶H薄膜的微结构和摩擦磨损行为

Microstructures and tribological properties of a-C∶H film prepared by DC reactive magnetron sputtering

刘龙 1周升国 1王跃臣 1刘正兵 1马利秋1

作者信息

  • 1. 江西理工大学材料科学与工程学院,江西赣州341000
  • 折叠

摘要

关键词

磁控溅射/a-C∶H薄膜/微结构/摩擦磨损

Key words

magnetron sputtering/a-C∶H film/microstructure/friction and wear

分类

机械制造

引用本文复制引用

刘龙,周升国,王跃臣,刘正兵,马利秋..直流反应磁控溅射沉积a-C∶H薄膜的微结构和摩擦磨损行为[J].有色金属科学与工程,2016,7(1):41-47,7.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(51302116) (51302116)

中科学院兰化所国家重点实验室开放基金项目(LSL-1203) (LSL-1203)

有色金属科学与工程

OACSTPCD

1674-9669

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