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气体进出方式对MPCVD大面积金刚石膜均匀性的影响

钟强 黑鸿君 李晓静 张阿莉 申艳艳 刘小萍 于盛旺

人工晶体学报2016,Vol.45Issue(4):906-912,7.
人工晶体学报2016,Vol.45Issue(4):906-912,7.

气体进出方式对MPCVD大面积金刚石膜均匀性的影响

Uniform Variation of Large-area Diamond Films Deposited by MPCVD with Different Gas-inlet and-outlet Locations

钟强 1黑鸿君 1李晓静 2张阿莉 3申艳艳 1刘小萍 1于盛旺1

作者信息

  • 1. 太原理工大学材料科学与工程学院表面工程研究所,太原030024
  • 2. 中国兵器科学研究院宁波分院,宁波315103
  • 3. 北京控制工程研究所,北京100191
  • 折叠

摘要

关键词

气体进出方式/MPCVD/金刚石膜/均匀性/流场模拟

Key words

gas inlet and outlet location/MPCVD/diamond film/uniformity/gas flow field simulation

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

钟强,黑鸿君,李晓静,张阿莉,申艳艳,刘小萍,于盛旺..气体进出方式对MPCVD大面积金刚石膜均匀性的影响[J].人工晶体学报,2016,45(4):906-912,7.

基金项目

山西省自然科学基金(2013011012-4) (2013011012-4)

浙江省公益技术应用项目(2014C31113) (2014C31113)

宁波市自然科学基金项目(2014A610012) (2014A610012)

国家自然科学基金(51474154,11405114) (51474154,11405114)

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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