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多孔与平面硅电极界面的电化学行为

吕京美 程璇

物理化学学报2016,Vol.32Issue(3):711-716,6.
物理化学学报2016,Vol.32Issue(3):711-716,6.DOI:10.3866/PKU.WHXB20151224

多孔与平面硅电极界面的电化学行为

Electrochemical Behavior of Porous and Flat Silicon Electrode Interfaces

吕京美 1程璇2

作者信息

  • 1. 北京理工大学珠海学院化工与材料学院,广东珠海519088
  • 2. 厦门大学材料学院材料科学与工程系,福建厦门361005
  • 折叠

摘要

关键词

多孔硅/硅电极界面/腐蚀速率/开路电位/极化曲线/界面电化学

Key words

Porous silicon/Silicon electrode interface/Corrosion rate/Open circuit potential/Polarization curve/Interface electrochemistry

分类

化学化工

引用本文复制引用

吕京美,程璇..多孔与平面硅电极界面的电化学行为[J].物理化学学报,2016,32(3):711-716,6.

基金项目

The project was supported by the National Natural Science Foundation of China (11372263).国家自然科学基金(11372263)资助项目 (11372263)

物理化学学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-6818

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