真空电子技术Issue(2)：18-22,26,6.
金属/La2O3/Si结构电流机制研究
The Current Leakage Mechanism of Metal/La2O3/Si Structures
仇庆林 1朱燕艳 1方泽波2
作者信息
- 1. 上海电力学院,上海200090
- 2. 绍兴文理学院,浙江绍兴312000
- 折叠
摘要
关键词
高k栅介质/漏电流/能带结构Key words
High-k gate dielectric/Current leakage/Energy band structure分类
数理科学引用本文复制引用
仇庆林,朱燕艳,方泽波..金属/La2O3/Si结构电流机制研究[J].真空电子技术,2016,(2):18-22,26,6.
