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薄膜厚度和溅射功率对有机衬底上ZnO∶Ga薄膜应力的影响

张哲浩 吕建国 江庆军 叶志镇

材料科学与工程学报2016,Vol.34Issue(3):348-352,366,6.
材料科学与工程学报2016,Vol.34Issue(3):348-352,366,6.DOI:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2016.03.002

薄膜厚度和溅射功率对有机衬底上ZnO∶Ga薄膜应力的影响

Influence of Film Thickness and Sputtering Power on Stress Properties of Ga ∶ ZnO Thin Films on Polymer Substrate

张哲浩 1吕建国 2江庆军 1叶志镇1

作者信息

  • 1. 硅材料国家重点实验室,浙江大学材料科学与工程学院,浙江杭州310027
  • 2. 材料科学系,金日成综合大学,平壤朝鲜420216
  • 折叠

摘要

关键词

ZnO∶Ga薄膜/应力/基片曲率法/直流磁控溅射/有机衬底

Key words

Ga doped ZnO/stress/wafer curvature method/DC magnetron sputtering/polymer substrate

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

张哲浩,吕建国,江庆军,叶志镇..薄膜厚度和溅射功率对有机衬底上ZnO∶Ga薄膜应力的影响[J].材料科学与工程学报,2016,34(3):348-352,366,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(51172204) (51172204)

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

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