液晶与显示2016，Vol.31Issue(4)：363-369,7.DOI:10.3788/YJYXS20163104.0363
LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化
Optimization of via etching process of LTPS TFT interlayer dielectric
摘要
关键词
LTPS TFT LCD/干法刻蚀/湿法刻蚀/层间绝缘层过孔/接触电阻/器件性能Key words
LTPS TFT LCD/dry etching/wet etching/via etching of interlayer dielectric/contact resistance/device performance分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
陈丽雯,叶芸,郭太良,彭涛,周秀峰,文亮..LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化[J].液晶与显示,2016,31(4):363-369,7.基金项目
国家863重大专项(No.2013AA030601) （No.2013AA030601）
福建省科技重大专项(No.2014HZ0003-1) （No.2014HZ0003-1）
福建省自然科学基金(No.2014J01236)Foundation by National High Technology Research and Development Program of China (No.2013AA030601) （No.2014J01236）
Important National Science & Technology Specific Projects of Fujian Province,China (No.2014HZ0003-1) （No.2014HZ0003-1）
Natural Science Foundation of Fujian Province,China (No.2014J01236) （No.2014J01236）
