液晶与显示2016，Vol.31Issue(4)：370-374,5.DOI:10.3788/YJYXS20163104.0370
ITO像素电极工序对于HADS产品TFT特性的影响
Effects of pixel ITO process on TFT characteristics of HADS product
林致远 1杨成绍 1邹志翔 1操彬彬 1黄寅虎 1文锺源 1王章涛1
作者信息
- 1. 合肥鑫晟光电科技有限公司,安徽合肥230012
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摘要
关键词
高开口率高级超维场转换技术/非晶硅/薄膜电晶体/Poole-FrenkelKey words
HADS/a-Si/TFT/Poole-Frenkel分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
林致远,杨成绍,邹志翔,操彬彬,黄寅虎,文锺源,王章涛..ITO像素电极工序对于HADS产品TFT特性的影响[J].液晶与显示,2016,31(4):370-374,5.
