液晶与显示2016，Vol.31Issue(4)：380-385,6.DOI:10.3788/YJYXS20163104.0380
薄膜晶体管中绝缘层的研究现状与趋势
Research status and trends of insulating layer in thin-film transistor
王东平 1谢应涛 1欧阳世宏 1朱大龙 1许鑫 1谭特 1方汉铿1
作者信息
- 1. 上海交通大学电子工程系TFT-LCD关键材料及技术国家工程实验室,上海200240
- 折叠
摘要
关键词
薄膜晶体管/溶胶凝胶法/紫外光退火/低温工艺Key words
thin film transistor/sol-gel process/UV annealing/low temperature process分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
王东平,谢应涛,欧阳世宏,朱大龙,许鑫,谭特,方汉铿..薄膜晶体管中绝缘层的研究现状与趋势[J].液晶与显示,2016,31(4):380-385,6.
