真空电子技术Issue(3)：35-39,5.
形核密度与氢等离子体处理对沉积CVD金刚石薄膜的影响
Influence of Nucleation Density and Hydrogen Plasma Treatment on Chemical Vapor Deposition of Diamond Films
摘要
关键词
金刚石膜/形核密度/氢等离子体/微波等离子体/化学气相沉积Key words
Diamond film/Nucleation density/Hydrogen plasma/Microwave plasma/Chemical vapor deposition分类
化学工程引用本文复制引用
翁俊,刘繁,孙祁,王小安,黄平,周璐,吴骁,汪建华..形核密度与氢等离子体处理对沉积CVD金刚石薄膜的影响[J].真空电子技术,2016,(3):35-39,5.基金项目
国家自然科学基金(No.11175137) （No.11175137）
湖北省教育厅项目(Q20151517) （Q20151517）
