真空电子技术Issue(3)：43-45,50,4.
不同浓度氮气对于MPCVD法生长纳米金刚石薄膜的影响
Influence of Different N2 Concentration on Growth of Nano-diamond Films by MPCVD
摘要
关键词
微波等离子体/化学气相沉积/纳米金刚石/氮气Key words
Microwave plasma/Chemical vapor deposition/Nano-diamond/Nitrogen分类
数理科学引用本文复制引用
王小安,汪建华,孙祁,黄平..不同浓度氮气对于MPCVD法生长纳米金刚石薄膜的影响[J].真空电子技术,2016,(3):43-45,50,4.基金项目
国家自然科学基金项目(11175137) （11175137）
湖北省教育厅项目(Q20151517) （Q20151517）
