表面技术2016，Vol.45Issue(6)：82-90,9.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.06.013
复合高功率脉冲磁控溅射技术的研究进展
Research Progress of Hybrid High Power Impulse Magnetron Sputtering
摘要
关键词
高功率脉冲磁控溅射/高离化率/物理气相沉积/辅助装置Key words
high power impulse magnetron sputtering/high ionized fraction/physical vapor deposition/auxiliary device分类
矿业与冶金引用本文复制引用
李春伟,苗红涛,徐淑艳,张群利..复合高功率脉冲磁控溅射技术的研究进展[J].表面技术,2016,45(6):82-90,9.基金项目
中央高校基本科研业务费专项资金项目资助(2572015CB07) （2572015CB07）
黑龙江省科学基金项目资助(QC2016053) （QC2016053）
中国博士后科学基金项目资助(2016M590273) （2016M590273）
黑龙江省教育厅科学技术研究项目资助(12523008)Supported by the Fundamental Research Funds for the Central Universities (2572015CB07) （12523008）
The Science Foundation of Heilongjiang Province of China (QC2016053) （QC2016053）
The China Postdoctoral Science Foundation (2016M590273) （2016M590273）
The Scientific Research Fund of Heilongjiang Provincial Education Department (12523008) （12523008）
