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化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展

李琳琳 李爱军 彭雨晴 李照谦 汤哲鹏

宇航材料工艺2016,Vol.46Issue(4):8-12,28,6.
宇航材料工艺2016,Vol.46Issue(4):8-12,28,6.DOI:10.3969/j.issn.1007-2330.2016.04.002

化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展

Progress on Boron Nitride Interface Coating Achieved by CVD

李琳琳 1李爱军 1彭雨晴 1李照谦 2汤哲鹏1

作者信息

  • 1. 上海大学材料复合及先进分散技术教育部工程中心,上海200072
  • 2. 上海航天设备制造总厂,上海200245
  • 折叠

摘要

关键词

界面相涂层/氮化硼/化学气相沉积/三氯化硼/氨气

Key words

Interface coating/BN/CVD/BCl3/NH3

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

李琳琳,李爱军,彭雨晴,李照谦,汤哲鹏..化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展[J].宇航材料工艺,2016,46(4):8-12,28,6.

基金项目

航空科学基金SiCf/SiC复合陶瓷浮动壁应用的基础研究(2013ZFS6001) (2013ZFS6001)

宇航材料工艺

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2330

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