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半导体制造中清洗技术的研究新进展阐述

袁文勋 张海兵 邢开璞

科技创新与应用Issue(28)：69,1.
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科技创新与应用Issue(28)：69,1.

半导体制造中清洗技术的研究新进展阐述

袁文勋 1张海兵 1邢开璞1

作者信息

  • 1. 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司,天津 300385
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摘要

关键词

半导体/清洗技术/进展

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袁文勋,张海兵,邢开璞..半导体制造中清洗技术的研究新进展阐述[J].科技创新与应用,2016,(28):69,1.

科技创新与应用

2095-2945

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