轻工机械2016，Vol.34Issue(5)：7-11,5.DOI:10.3969/j.issn.1005-2895.2016.05.002
基于正交试验的雾化施液抛光工艺参数研究
Process Parameters of Atomizing Slurry Applied CMP Based on Orthogonal Experiment
摘要
关键词
化学机械抛光/正交试验/权矩阵/雾化施液Key words
chemical mechanical polishing/orthogonal experiment/weight matrix/atomizing slurry applied分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
孙发青,李庆忠..基于正交试验的雾化施液抛光工艺参数研究[J].轻工机械,2016,34(5):7-11,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(51175228). （51175228）
