光学精密工程2016，Vol.34Issue(10)：2357-2369,13.DOI:10.3788/OPE.20162410.2357
拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势
Current status and trends of stitching interferometry in synchrotron radiation field
摘要
关键词
光学元件/面形检测/拼接干涉术/同步辐射/综述Key words
optical element/surface figure test/stitching interferometry/synchrotron radiation/overview分类
机械制造引用本文复制引用
刘丁枭,盛伟繁,王秋实,李明..拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势[J].光学精密工程,2016,34(10):2357-2369,13.基金项目
国家自然科学基金青年基金资助项目(No.11005123) （No.11005123）
