人工晶体学报2016，Vol.45Issue(10)：2359-2363,5.
气体流量对TYUT型MPCVD装置沉积大面积金刚石膜的影响
Effect of Gas Flow Rates on the Large Area Diamond Films Deposited by TYUT-type MPCVD Equipment
摘要
关键词
气体流量/MPCVD/金刚石膜/均匀性/晶粒取向/品质Key words
gas flow rate/MPCVD/diamond film/uniformity/grain orientation/quality分类
数理科学引用本文复制引用
郑可,钟强,高洁,黑鸿君,申艳艳,刘小萍,贺志勇,于盛旺..气体流量对TYUT型MPCVD装置沉积大面积金刚石膜的影响[J].人工晶体学报,2016,45(10):2359-2363,5.基金项目
国家自然科学基金(51474154,11405114,51601124) （51474154,11405114,51601124）
山西省回国留学人员科研资助项目(2015-034) （2015-034）
