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制药设备设计制造对"ICH Q3D元素杂质指导原则"的响应
制药设备设计制造对"ICH Q3D元素杂质指导原则"的响应
周立法
江培
曹丽娜
机电信息
Issue(35):1-7,22,8.
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机电信息
Issue(35)
:1-7,22,8.
制药设备设计制造对"ICH Q3D元素杂质指导原则"的响应
周立法
1
江培
1
曹丽娜
1
作者信息
1.
森松集团(中国),上海201323
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摘要
关键词
ICHQ3D
/
元素杂质
/
风险分析
/
制药设备
/
应对措施
引用本文
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周立法,江培,曹丽娜..制药设备设计制造对"ICH Q3D元素杂质指导原则"的响应[J].机电信息,2016,(35):1-7,22,8.
机电信息
ISSN:
1671-0797
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