| 注册
首页|期刊导航|硅酸盐通报|加热器/坩埚相对位置对φ200mm单晶硅生长过程中温度场和晶体质量的影响

加热器/坩埚相对位置对φ200mm单晶硅生长过程中温度场和晶体质量的影响

高忙忙 朱博 李进 景华玉 董法运 梁森 李海波

硅酸盐通报2016,Vol.35Issue(11):3607-3612,6.
硅酸盐通报2016,Vol.35Issue(11):3607-3612,6.

加热器/坩埚相对位置对φ200mm单晶硅生长过程中温度场和晶体质量的影响

Influence of Heater/Crucible Position on the Thermal Field and Crystal Quality in the Preparation of Single Crystal Silicon with φ200 mm

高忙忙 1朱博 2李进 1景华玉 1董法运 1梁森 1李海波1

作者信息

  • 1. 宁夏大学宁夏光伏材料重点实验室,银川750021
  • 2. 广西大学电气工程学院,南宁530004
  • 折叠

摘要

关键词

单晶硅/温度梯度/固液界面/氧含量

Key words

single crystal silicon/temperature gradient/solid-liquid interface/oxygen concentration

分类

化学化工

引用本文复制引用

高忙忙,朱博,李进,景华玉,董法运,梁森,李海波..加热器/坩埚相对位置对φ200mm单晶硅生长过程中温度场和晶体质量的影响[J].硅酸盐通报,2016,35(11):3607-3612,6.

基金项目

国家自然科学基金(61366005) (61366005)

2015宁夏自治区科技攻关项目 ()

硅酸盐通报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-1625

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文