大连工业大学学报2016，Vol.35Issue(6)：477-481,5.
工艺条件对中频磁控溅射CIGS薄膜的影响
Effect of process on mid-frequency magnetron sputtering Cu(In,Ga)Se2 thin films for solar cells
摘要
关键词
中频磁控溅射/CIGS薄膜/功率/基底温度Key words
mid-frequency magnetron sputtering/CIGS thin films/power/substrate temperature分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
魏丽娟,刘贵山,刘洋,王勇兵,高文元,郝洪顺..工艺条件对中频磁控溅射CIGS薄膜的影响[J].大连工业大学学报,2016,35(6):477-481,5.基金项目
大连市建委资助项目(2012-456) （2012-456）
大连市科技平台建设项目(2010-354). （2010-354）
