首页|期刊导航|表面技术|室温下反应磁控溅射沉积氧化钛薄膜光学性能和力学性能研究

室温下反应磁控溅射沉积氧化钛薄膜光学性能和力学性能研究

惠迎雪王钊贺爱峰徐均琪

表面技术2016，Vol.45Issue(11)：167-172,6.

表面技术2016，Vol.45Issue(11)：167-172,6.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.11.026

室温下反应磁控溅射沉积氧化钛薄膜光学性能和力学性能研究

Optical and Mechanical Properties of TiO2 Films Prepared by DC Magnetron Sputtering at Room-Temperature

惠迎雪 ¹王钊 ¹贺爱峰 ²徐均琪¹

作者信息

1. 西安工业大学光电学院,西安710021
2. 陕西应用物理化学研究所应用物理化学国家级重点实验室,西安710061
折叠

摘要

关键词

反应磁控溅射/氧化钛薄膜/折射率/纳米硬度

Key words

reactive magnetron sputtering/TiO2 films/refractive index/nano-hardness

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

惠迎雪,王钊,贺爱峰,徐均琪..室温下反应磁控溅射沉积氧化钛薄膜光学性能和力学性能研究[J].表面技术,2016,45(11):167-172,6.

基金项目

国家自然科学基金项目(61378050) （61378050）

陕西省科技厅重点实验室项目(2013SZS14-Z02)Supported by the National Natural Foundation of China(61378050) and Foundation of Key Laboratory of Science and Technology Commission of Shaanxi Province of China (2013SZS14-Z02) （2013SZS14-Z02）

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1001-3660

访问量4

下载量0

段落导航