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溅射时间对GZO薄膜光电性能的影响

丛芳玲 赵青南 刘旭 罗乐平 顾宝宝 董玉红 赵杰

硅酸盐通报2016,Vol.35Issue(12):3910-3914,5.
硅酸盐通报2016,Vol.35Issue(12):3910-3914,5.

溅射时间对GZO薄膜光电性能的影响

Effects of Sputtering Time on Photoelectric Property of GZO Films

丛芳玲 1赵青南 1刘旭 2罗乐平 1顾宝宝 1董玉红 1赵杰2

作者信息

  • 1. 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉430070
  • 2. 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁223800
  • 折叠

摘要

关键词

GZO薄膜/溅射时间/光电性能/射频磁控溅射

Key words

GZO film/sputtering time/photoelectric property/RF magnetron sputtering

分类

数理科学

引用本文复制引用

丛芳玲,赵青南,刘旭,罗乐平,顾宝宝,董玉红,赵杰..溅射时间对GZO薄膜光电性能的影响[J].硅酸盐通报,2016,35(12):3910-3914,5.

基金项目

湖北省重大科技创新计划项目(2013AAA005) (2013AAA005)

硅酸盐通报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-1625

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