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离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性

刘华松 杨霄 王利栓 姜玉刚 季一勤 陈德应

光学精密工程2017,Vol.25Issue(1):21-27,7.
光学精密工程2017,Vol.25Issue(1):21-27,7.DOI:10.3788/OPE.20172501.0021

离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性

Characteristics of optical band gap of tantalum oxide thin film deposited by ion beam sputtering

刘华松 1杨霄 2王利栓 1姜玉刚 1季一勤 2陈德应1

作者信息

  • 1. 中国航天科工飞航技术研究院天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室,天津300308
  • 2. 哈尔滨工业大学光电子技术研究所可调谐激光技术国防科技重点实验室,黑龙江哈尔滨150001
  • 折叠

摘要

关键词

Ta2O5薄膜/禁带宽度/Urbach带尾宽度/制备参数/影响权重

Key words

Ta2O5 thin film/band gap/Urbach energy/preparative parameters/influence coefficient

分类

数理科学

引用本文复制引用

刘华松,杨霄,王利栓,姜玉刚,季一勤,陈德应..离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性[J].光学精密工程,2017,25(1):21-27,7.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(No.61405145,No.61235011) (No.61405145,No.61235011)

天津市自然科学重点基金资助项目(No.15JCZDJC31900) (No.15JCZDJC31900)

中国博士后科学基金资助项目(No.2015T80115,No.2014M560104) (No.2015T80115,No.2014M560104)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

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