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等离子体沉积类SiO2薄膜抑制环氧树脂表面电荷积聚

海彬章程王瑞雪张帅陈根永邵涛

高电压技术2017，Vol.43Issue(2)：375-384,10.

高电压技术2017，Vol.43Issue(2)：375-384,10.DOI:10.13336/j.1003-6520.hve.20170123005

等离子体沉积类SiO2薄膜抑制环氧树脂表面电荷积聚

Plasma Depositing SiO2-1ike Film to Suppress Surface Charge Accumulation on Epoxy Resin

海彬 ¹章程 ²王瑞雪 ²张帅 ³陈根永 ²邵涛³

作者信息

1. 郑州大学电气工程学院,郑州450001
2. 中国科学院电工研究所,北京100190
3. 中国科学院电力电子与电气驱动重点实验室,北京100190
折叠

摘要

关键词

环氧树脂/滑动放电/类SiO2薄膜/表面电位/电导率

Key words

epoxy resin/gliding arc discharge/SiO2-1ike film/surface potential/conductivity

引用本文复制引用

海彬,章程,王瑞雪,张帅,陈根永,邵涛..等离子体沉积类SiO2薄膜抑制环氧树脂表面电荷积聚[J].高电压技术,2017,43(2):375-384,10.

基金项目

国家自然科学基金(11575194) （11575194）

国家重点基础研究发展计划(973计划)(2014CB239505-3) （973计划）

华中科技大学强电磁工程与新技术国家重点实验室开放课题(2016KF007).Project supported by National Natural Science Foundation of China (11575194),National Basic Research Program of China(973 Program)(2014CB239505-3),State Key Laboratory of Advanced Electromagnetic Engineering and Technology of Huazhong University of Science and Technology (2016KF007). （2016KF007）

高电压技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1003-6520

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