上海航天2017，Vol.34Issue(3)：136-147,12.DOI:10.19328/j.cnki.1006-1630.2017.03.019
聚酰亚胺正性光刻胶材料的制备及性能研究综述
Progress Review on Preparation and Lithographic Performance of Positive-Tone Photosensitive Polyimides
摘要
关键词
聚酰亚胺/聚酰胺酸/光刻胶/二叠氮萘醌/光敏剂/制备/光刻性能/航天应用分类
通用工业技术引用本文复制引用
郑凤,路庆华..聚酰亚胺正性光刻胶材料的制备及性能研究综述[J].上海航天,2017,34(3):136-147,12.基金项目
航天先进技术联合研究中心技术创新项目资助(USVAST2015-27) （USVAST2015-27）
