基于等离子体光谱的反应磁控溅射镀膜控制系统OA
Control System of Reactive Magnetron Sputtering Coating Based on Plasma Spectrum
为实现精确、稳定、快速的反应溅射镀膜工艺,降低成本,提高品质,设计基于等离子体光谱的反应溅射镀膜控制系统.通过监控反应溅射镀膜过程中等离子体的发射光谱,采用PID算法控制,实时闭环调节反应气体流量.
曹一鸣;陈霞;蔡俊涛
广州市光机电技术研究院广州市光机电技术研究院广州市光机电技术研究院
等离子体光谱反应磁控溅射
《自动化与信息工程》 2017 (6)
37-39,3
广东省科技计划项目(2016B030303001)广州市科技计划项目(2014SY000018)
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