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沉积温度对直流磁控溅射TiN薄膜结构和 表面形貌的影响

肖畅飞 邹树梁 唐德文 李奎江 刘昌福

南华大学学报(自然科学版)2017,Vol.31Issue(4):86-89,4.
南华大学学报(自然科学版)2017,Vol.31Issue(4):86-89,4.

沉积温度对直流磁控溅射TiN薄膜结构和 表面形貌的影响

Effect of Deposition Temperature on Structure and Surface Morphology of TiN Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering

肖畅飞 1邹树梁 2唐德文 1李奎江 2刘昌福1

作者信息

  • 1. 南华大学 机械工程学院,湖南 衡阳421001
  • 2. 南华大学 核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室,湖南 衡阳421001
  • 折叠

摘要

关键词

磁控溅射/锆合金/氮化钛/沉积温度

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

肖畅飞,邹树梁,唐德文,李奎江,刘昌福..沉积温度对直流磁控溅射TiN薄膜结构和 表面形貌的影响[J].南华大学学报(自然科学版),2017,31(4):86-89,4.

基金项目

核设施退役和核泄漏安全处理技术及装备研发( 02072012KIT01) ( 02072012KIT01)

南华大学学报(自然科学版)

1673-0062

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