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磁流变抛光(MRF)装置专利技术分析

吕文权 周旭娇 张伟

科技创新与应用Issue(8)：28-29,2.
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科技创新与应用Issue(8)：28-29,2.

磁流变抛光(MRF)装置专利技术分析

吕文权 1周旭娇 1张伟1

作者信息

  • 1. 国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心,四川 成都 610213
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摘要

关键词

磁流变抛光装置/专利技术/分析

分类

化学化工

引用本文复制引用

吕文权,周旭娇,张伟..磁流变抛光(MRF)装置专利技术分析[J].科技创新与应用,2018,(8):28-29,2.

科技创新与应用

2095-2945

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