沈阳大学学报2017，Vol.29Issue(6)：431-434,4.
基体偏压对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜力学性能的影响
Effect of Bias Voltage on Mechanical Properties of Reactive Magnetron Co-Sputtered TiN/Ni Nanocomposite Films
摘要
关键词
TiN/Ni/纳米复合膜/反应磁控共溅射/负偏压/力学性能引用本文复制引用
贺春林,陈宏志,高建君,王苓飞,马国峰,王建明..基体偏压对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜力学性能的影响[J].沈阳大学学报,2017,29(6):431-434,4.基金项目
国家自然科学基金资助项目(51171118) （51171118）
辽宁省高等学校优秀人才支持计划(LR2013054). （LR2013054）
