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Al0.17Ga0.83As/GaAs(001)薄膜退火过程的 热力学分析

王一 杨晨 郭祥 王继红 刘雪飞 魏节敏 郎啟智 罗子江 丁召

物理学报2018,Vol.67Issue(8):36-42,7.
物理学报2018,Vol.67Issue(8):36-42,7.DOI:10.7498/aps.67.20172718

Al0.17Ga0.83As/GaAs(001)薄膜退火过程的 热力学分析

Thermodynamic analysis of Al0.17Ga0.83As/GaAs (001) in annealing process

王一 1杨晨 2郭祥 1王继红 2刘雪飞 1魏节敏 2郎啟智 1罗子江 2丁召1

作者信息

  • 1. 贵州大学大数据与信息工程院, 贵阳 550025
  • 2. 教育部半导体功率器件可靠性工程中心, 贵阳 550025
  • 折叠

摘要

关键词

AlGaAs/薄膜/退火

引用本文复制引用

王一,杨晨,郭祥,王继红,刘雪飞,魏节敏,郎啟智,罗子江,丁召..Al0.17Ga0.83As/GaAs(001)薄膜退火过程的 热力学分析[J].物理学报,2018,67(8):36-42,7.

基金项目

国家自然科学基金(批准号: 61564002, 11664005, 61604046)和贵州省科学技术基金(批准号: 黔科合J字[2014]2046,黔科合LH字[2016]7436, 黔科合基础[2017]1055)资助的课题. (批准号: 61564002, 11664005, 61604046)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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