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钒氧化物薄膜的溅射法制备及电学性质研究

朱煜 刘思杨 朱子疏 祝巍

表面技术2018,Vol.47Issue(7):152-159,8.
表面技术2018,Vol.47Issue(7):152-159,8.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.07.021

钒氧化物薄膜的溅射法制备及电学性质研究

Preparation of Vanadium Oxides Thermochromic Thin Films in Sputtering Method and Electrical Properties

朱煜 1刘思杨 1朱子疏 1祝巍1

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学 物理学院 物理实验教学中心,合肥 230026
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摘要

关键词

二氧化钒/直流磁控溅射/薄膜/X射线衍射/相变

分类

数理科学

引用本文复制引用

朱煜,刘思杨,朱子疏,祝巍..钒氧化物薄膜的溅射法制备及电学性质研究[J].表面技术,2018,47(7):152-159,8.

基金项目

国家自然科学基金(51602302) (51602302)

国家基础科学人才培养基金(J1103207) (J1103207)

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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