表面技术2018，Vol.47Issue(7)：179-184,6.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.07.025
氮掺杂纳米金刚石膜的结构和电学性能
Structure and Electrical Properties of N-doped
Nanocrytalline Diamond Films
龚耀庭1
作者信息
- 1. 武汉工程大学邮电与信息工程学院,武汉 430073
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摘要
关键词
氮掺杂/纳米金刚石膜/晶粒尺寸/电学性能分类
数理科学引用本文复制引用
龚耀庭..氮掺杂纳米金刚石膜的结构和电学性能[J].表面技术,2018,47(7):179-184,6.
