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制造单元布局问题的双目标模型与算法研究

俞武扬 方俊俊

运筹与管理2018,Vol.27Issue(6):100-106,7.
运筹与管理2018,Vol.27Issue(6):100-106,7.DOI:10.12005/orms.2018.0139

制造单元布局问题的双目标模型与算法研究

Research on Bi-Objective Model and Its Algorithm in Cellular Manufacturing Facility Layout Problem

俞武扬 1方俊俊1

作者信息

  • 1. 杭州电子科技大学 管理学院,浙江 杭州 310018
  • 折叠

摘要

关键词

单元制造系统/设施布局/模拟退火算法/双目标优化

分类

机械制造

引用本文复制引用

俞武扬,方俊俊..制造单元布局问题的双目标模型与算法研究[J].运筹与管理,2018,27(6):100-106,7.

基金项目

国家社科基金资助项目(17BGL182) (17BGL182)

浙江省哲学社会科学规划项目(17NDJC053YB) (17NDJC053YB)

运筹与管理

OA北大核心CHSSCDCSCDCSSCICSTPCD

1007-3221

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