| 注册
首页|期刊导航|物理学报|氧化物隔离对Si基片上生长L10相FePt薄膜磁性的影响

氧化物隔离对Si基片上生长L10相FePt薄膜磁性的影响

李丹 李国庆

物理学报2018,Vol.67Issue(15):121-129,9.
物理学报2018,Vol.67Issue(15):121-129,9.DOI:10.7498/aps.67.20180387

氧化物隔离对Si基片上生长L10相FePt薄膜磁性的影响

Effects of oxide isolation layer on magnetic properties of L10 FePt film grown on Si substrate

李丹 1李国庆1

作者信息

  • 1. 西南大学物理科学与技术学院, 重庆 400715
  • 折叠

摘要

关键词

FePt薄膜,/Si基片,氧化物隔离层,热处理

引用本文复制引用

李丹,李国庆..氧化物隔离对Si基片上生长L10相FePt薄膜磁性的影响[J].物理学报,2018,67(15):121-129,9.

基金项目

国家自然科学基金(批准号: 51071132)资助的课题. (批准号: 51071132)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-3290

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文