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Si原子在CeO2(111)表面吸附与迁移的第一性原理研究

贾慧灵 任保根 刘学杰 贾延琨 李梅 吴锦绣

原子能科学技术2018,Vol.52Issue(7):1214-1221,8.
原子能科学技术2018,Vol.52Issue(7):1214-1221,8.DOI:10.7538/yzk.2017.youxian.0693

Si原子在CeO2(111)表面吸附与迁移的第一性原理研究

First Principle Calculation on Adsorption and Diffusion Behavior of Si Atom on CeO2 (111 ) Surface

贾慧灵 1任保根 1刘学杰 1贾延琨 1李梅 2吴锦绣2

作者信息

  • 1. 内蒙古科技大学机械工程学院,内蒙古包头 014010
  • 2. 内蒙古科技大学材料与冶金学院,内蒙古包头 014010
  • 折叠

摘要

关键词

Si/CeO2/吸附/电子结构/迁移

分类

数理科学

引用本文复制引用

贾慧灵,任保根,刘学杰,贾延琨,李梅,吴锦绣..Si原子在CeO2(111)表面吸附与迁移的第一性原理研究[J].原子能科学技术,2018,52(7):1214-1221,8.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(61765012,51562031) (61765012,51562031)

国家杰出青年基金资助项目(51025416) (51025416)

教育部创新团队项目资助(IRT1065) (IRT1065)

原子能科学技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-6931

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