红外技术2018，Vol.40Issue(4)：322-326,5.
3英寸锗基HgCdTe表面ZnS钝化膜的应力研究
Study of Stress in ZnS Passivation Films Prepared on 3 Inch Ge-based HgCdTe
林占文 1韩福忠 1耿松 1李雄军 1史琪 1王向前1
作者信息
- 1. 昆明物理研究所,云南 昆明 650223
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摘要
关键词
表面钝化/ZnS钝化膜/钝化膜应力/退火/AFM/锗衬底/碲镉汞分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
林占文,韩福忠,耿松,李雄军,史琪,王向前..3英寸锗基HgCdTe表面ZnS钝化膜的应力研究[J].红外技术,2018,40(4):322-326,5.
