液晶与显示2018，Vol.33Issue(8)：653-660,8.DOI:10.3788/YJYXS20183308.0653
光刻胶段差对光刻图形的影响与改善
Effect of segment difference of photoresist on lithography pattern and improvement
张玉虎 1李亚文 1刘小波 1马小辉 1张旭1
作者信息
- 1. 合肥京东方光电科技有限公司,安徽合肥230012
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摘要
关键词
段差/光刻胶/光刻/光刻面/光强分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
张玉虎,李亚文,刘小波,马小辉,张旭..光刻胶段差对光刻图形的影响与改善[J].液晶与显示,2018,33(8):653-660,8.
