液晶与显示2018，Vol.33Issue(9)：717-724,8.DOI:10.3788/YJYXS20183309.0717
阵列基板栅极制程的Cu腐蚀研究
Cu corrosion of array substrate in gate process
刘丹 1刘涛 1李晨雨 1陈国良 1秦刚 1王任远 1吕俊君 1饶毅 1周禹 1王百强 1李路 1蔡卫超1
作者信息
- 1. 重庆京东方光电科技有限公司 光刻工程部 ,重庆 400700
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摘要
关键词
Cu电极/Cu腐蚀/电化学效应/刻蚀工艺/剥离工艺分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
刘丹,刘涛,李晨雨,陈国良,秦刚,王任远,吕俊君,饶毅,周禹,王百强,李路,蔡卫超..阵列基板栅极制程的Cu腐蚀研究[J].液晶与显示,2018,33(9):717-724,8.
