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5 V pMOS器件的热载流子注入退化机理

杨翰琪 刘小红 吕康 魏家行 孙伟锋

电子器件2018,Vol.41Issue(5):1093-1096,4.
电子器件2018,Vol.41Issue(5):1093-1096,4.DOI:10.3969/j.issn.1005-9490.2018.05.002

5 V pMOS器件的热载流子注入退化机理

Investigations on Hot-Carrier Injection Degradation Mechanism of 5 V pMOS Device

杨翰琪 1刘小红 2吕康 2魏家行 1孙伟锋1

作者信息

  • 1. 东南大学国家专用集成电路系统工程技术研究中心,南京210096
  • 2. 华润上华半导体有限公司,江苏 无锡214000
  • 折叠

摘要

关键词

pMOS/热载流子注入/不同栅压应力/TCAD仿真

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

杨翰琪,刘小红,吕康,魏家行,孙伟锋..5 V pMOS器件的热载流子注入退化机理[J].电子器件,2018,41(5):1093-1096,4.

基金项目

国家自然科学基金项目(61604038) (61604038)

江苏省高校品牌专业建设工程项目 ()

电子器件

OA北大核心CSTPCD

1005-9490

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