高电压技术2018，Vol.44Issue(9)：3001-3008,8.DOI:10.13336/j.1003-6520.hve.20180828030
基于二维PIC-DSMC耦合算法的真空沿面闪络形成过程的等离子体演化特性
Plasma Evolution of Surface Flashover Form Process in Vacuum by 2D PIC-DSMC Code
摘要
关键词
沿面闪络/绝缘体/等离子体/场致发射/模拟引用本文复制引用
徐翱,金大志,程焰林,陈磊,谈效华..基于二维PIC-DSMC耦合算法的真空沿面闪络形成过程的等离子体演化特性[J].高电压技术,2018,44(9):3001-3008,8.基金项目
中国工程物理研究院科学技术发展基金(2015B0102013) （2015B0102013）
中国工程物理研究院电子工程研究所科技创新基金(S20150807). （S20150807）
