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膜厚对直流反应磁控溅射沉积NiO薄膜的结构与电致变色性能的影响

张泽华 赵青南 刘翔 李渊 曾臻 董玉红 赵杰

硅酸盐通报2018，Vol.37Issue(9)：2759-2765,7.
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硅酸盐通报2018，Vol.37Issue(9)：2759-2765,7.

膜厚对直流反应磁控溅射沉积NiO薄膜的结构与电致变色性能的影响

Effects of Film Thickness on Structural and Electrochromic Properties of NiO Films Deposited by DC Reactive Magnetron Sputtering

张泽华 1赵青南 1刘翔 2李渊 1曾臻 1董玉红 1赵杰2

作者信息

  • 1. 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉 430070
  • 2. 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁 223800
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摘要

关键词

膜厚/NiO薄膜/电致变色/直流反应磁控溅射

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

张泽华,赵青南,刘翔,李渊,曾臻,董玉红,赵杰..膜厚对直流反应磁控溅射沉积NiO薄膜的结构与电致变色性能的影响[J].硅酸盐通报,2018,37(9):2759-2765,7.

基金项目

国家十三五重点研发计划子课题(2016YFB0303903-04) （2016YFB0303903-04）

硅酸盐通报

OA北大核心CSTPCD

1001-1625

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