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不同厚度和退火温度下AZO/ZnO结构的薄膜稳定性

杜忠明 刘向鑫

电源技术2018,Vol.42Issue(10):1563-1566,4.
电源技术2018,Vol.42Issue(10):1563-1566,4.

不同厚度和退火温度下AZO/ZnO结构的薄膜稳定性

Electrical stability of AZO/ZnO films of different thickness during annealing at different temperatures

杜忠明 1刘向鑫2

作者信息

  • 1. 中国科学院电工研究所太阳能热利用和光伏系统重点实验室,北京100190
  • 2. 中国科学院大学,北京100049
  • 折叠

摘要

关键词

射频磁控溅射/AZO/ZnO/电阻率/退火

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

杜忠明,刘向鑫..不同厚度和退火温度下AZO/ZnO结构的薄膜稳定性[J].电源技术,2018,42(10):1563-1566,4.

基金项目

“863”项目(2015AA050609) (2015AA050609)

国家自然科学基金(61274060) (61274060)

中国科学院交叉创新团队资助项目 ()

电源技术

OA北大核心CSTPCD

1002-087X

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