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掺杂Si/SiO2界面电子结构与光学性质的第一性原理研究

顾芳 孙亚飞 张加宏 何鹏翔 王丽阳

原子与分子物理学报2018,Vol.35Issue(5):853-860,8.
原子与分子物理学报2018,Vol.35Issue(5):853-860,8.DOI:10.3969/j.issn.1000-0364.2018.05.023

掺杂Si/SiO2界面电子结构与光学性质的第一性原理研究

First-principles study on the electronic structure and optical properties of doped Si/SiO2 interface

顾芳 1孙亚飞 1张加宏 2何鹏翔 1王丽阳1

作者信息

  • 1. 南京信息工程大学物理与光电工程学院, 南京210044
  • 2. 南京信息工程大学江苏省气象探测与信息处理重点实验室,南京210044
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摘要

关键词

Si/SiO2界面/第一性原理/电子结构/光学性质/掺杂/压强

分类

数理科学

引用本文复制引用

顾芳,孙亚飞,张加宏,何鹏翔,王丽阳..掺杂Si/SiO2界面电子结构与光学性质的第一性原理研究[J].原子与分子物理学报,2018,35(5):853-860,8.

基金项目

国家自然科学基金(61307113,61306138) (61307113,61306138)

江苏高校品牌专业建设工程项目(TAPP) (TAPP)

江苏省高等学校大学生实践创新训练计划项目(201710300092) (201710300092)

原子与分子物理学报

OA北大核心

1000-0364

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