表面技术2018，Vol.47Issue(11)：202-209,8.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.11.029
甲烷与氢气的流量比在高功率下对金刚石膜生长的影响
Influence of the Gas Flow Ratio between CH4 and H2 on the Growth of Diamond Films at High Microwave Power
摘要
关键词
甲烷/氢气/高微波功率/微波等离子体/化学气相沉积分类
矿业与冶金引用本文复制引用
翁俊,周程,刘繁,汪建华..甲烷与氢气的流量比在高功率下对金刚石膜生长的影响[J].表面技术,2018,47(11):202-209,8.基金项目
国家自然科学基金项目(51402220) （51402220）
湖北省教育厅基金项目(Q20151517) （Q20151517）
武汉工程大学科学研究基金项目(K201506) （K201506）
