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ChCl-EG低共熔溶剂体系中镍沉积的电化学行为研究

谭勇 张久凌 孙杰

表面技术2018,Vol.47Issue(11):245-250,6.
表面技术2018,Vol.47Issue(11):245-250,6.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.11.035

ChCl-EG低共熔溶剂体系中镍沉积的电化学行为研究

Electrochemical Behavior of Nickel Electroplating Process in ChCl-EG Eutectic Solvents

谭勇 1张久凌 1孙杰1

作者信息

  • 1. 沈阳理工大学 环境与化学工程学院,沈阳 110159
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摘要

关键词

氯化胆碱-乙二醇//电沉积/循环伏安/计时电流/形核机制

分类

化学化工

引用本文复制引用

谭勇,张久凌,孙杰..ChCl-EG低共熔溶剂体系中镍沉积的电化学行为研究[J].表面技术,2018,47(11):245-250,6.

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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