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4H-SiC基半超结VDMOSFET单粒子烧毁效应

刘忠永 蔡理 刘保军 刘小强 崔焕卿 杨晓阔

空军工程大学学报(自然科学版)2018,Vol.19Issue(3):95-100,6.
空军工程大学学报(自然科学版)2018,Vol.19Issue(3):95-100,6.DOI:10.3969/j.issn.1009-3516.2018.03.017

4H-SiC基半超结VDMOSFET单粒子烧毁效应

Single Event Burnout of 4H-SiC Semi-Super-Junction VDMOSFET

刘忠永 1蔡理 1刘保军 2刘小强 1崔焕卿 1杨晓阔1

作者信息

  • 1. 空军工程大学基础部,西安,710051
  • 2. 空军工程大学航空机务士官学校,河南信阳,464000
  • 折叠

摘要

关键词

4H-SiC/垂直双扩散MOSFET/半超结/单粒子烧毁

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘忠永,蔡理,刘保军,刘小强,崔焕卿,杨晓阔..4H-SiC基半超结VDMOSFET单粒子烧毁效应[J].空军工程大学学报(自然科学版),2018,19(3):95-100,6.

基金项目

国家自然科学基金(11405270) (11405270)

空军工程大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSCDCSTPCD

2097-1915

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