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添加Y对电弧离子镀TiAlN薄膜结构和摩擦磨损性能的影响

郭策安 赵宗科 胡明 尚光明 周峰 张健

表面技术2018,Vol.47Issue(10):139-144,6.
表面技术2018,Vol.47Issue(10):139-144,6.DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.10.018

添加Y对电弧离子镀TiAlN薄膜结构和摩擦磨损性能的影响

Influence of Y on Microstructure and Performance of Friction and Wear of Arc Ion Plated TiAlN Film

郭策安 1赵宗科 2胡明 1尚光明 1周峰 3张健4

作者信息

  • 1. 沈阳理工大学装备工程学院,沈阳110159
  • 2. 重庆建设工业(集团)有限责任公司,重庆400054
  • 3. 中北大学机电工程学院,太原030051
  • 4. 北方华安工业集团有限公司,黑龙江齐齐哈尔161046
  • 折叠

摘要

关键词

TiAlN薄膜/TiAlYN薄膜/CrNi3MoVA钢/电弧离子镀/硬度/弹性模量/摩擦磨损

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

郭策安,赵宗科,胡明,尚光明,周峰,张健..添加Y对电弧离子镀TiAlN薄膜结构和摩擦磨损性能的影响[J].表面技术,2018,47(10):139-144,6.

基金项目

辽宁省自然科学基金(201602643) (201602643)

沈阳理工大学辽宁省兵器科学与技术重点实验室开放基金(4771004kfs25) (4771004kfs25)

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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