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等离子体复合薄膜沉积抑制金属微粒启举

程显 徐晖 王瑞雪 高远 章程 邵涛

电工技术学报2018，Vol.33Issue(20)：4672-4681,10.
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电工技术学报2018，Vol.33Issue(20)：4672-4681,10.DOI:10.19595/j.cnki.1000-6753.tces.L80830

等离子体复合薄膜沉积抑制金属微粒启举

Composite Thin Film Deposited by Plasma to Inhibit the Lifting of Metal Particles

程显 1徐晖 1王瑞雪 2高远 2章程 3邵涛2

作者信息

  • 1. 郑州大学电气工程学院 郑州 450001
  • 2. 中国科学院电工研究所 北京 100190
  • 3. 中国科学院电力电子与电气驱动重点实验室 北京 100190
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摘要

关键词

等离子体射流/直流气体绝缘金属封闭线路/沉积薄膜/电极表面覆膜/金属微粒启举

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

程显,徐晖,王瑞雪,高远,章程,邵涛..等离子体复合薄膜沉积抑制金属微粒启举[J].电工技术学报,2018,33(20):4672-4681,10.

基金项目

国家重点基础研究发展计划(973计划)(2014CB239505-3),国家自然科学基金面上项目(11575194),清华大学电力系统及大型发电设备安全控制和仿真国家重点实验室开放课题(SKLD17KM06)资助项目. （973计划）

电工技术学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-6753

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