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基于分子动力学的压力对纳米抛光碳化硅的影响分析

张广辉 王桂莲 王治国 徐进友

重型机械Issue(6):25-29,5.
重型机械Issue(6):25-29,5.

基于分子动力学的压力对纳米抛光碳化硅的影响分析

Effect of pressure on nano-polishing silicon carbide based on molecular dynamics

张广辉 1王桂莲 1王治国 2徐进友1

作者信息

  • 1. 天津理工大学天津市先进机电系统设计与智能控制重点实验室, 天津 300384
  • 2. 桂林航天工业学院机械工程学院, 广西 桂林 541004
  • 折叠

摘要

关键词

碳化硅/抛光/压力/材料去除

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

张广辉,王桂莲,王治国,徐进友..基于分子动力学的压力对纳米抛光碳化硅的影响分析[J].重型机械,2018,(6):25-29,5.

基金项目

国家自然科学基金项目(51405196),中国博士后科学基金项目(2015M580245). (51405196)

重型机械

1001-196X

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