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W掺杂NiOx薄膜的制备及全固态电致变色器件的性能

孟凡禹 刘静 汪洪

材料科学与工程学报2018,Vol.36Issue(6):874-878,5.
材料科学与工程学报2018,Vol.36Issue(6):874-878,5.DOI:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2018.06.003

W掺杂NiOx薄膜的制备及全固态电致变色器件的性能

Study on W-doped NiOx Thin Film and the Performance of All-solid-state Electrochromic Device

孟凡禹 1刘静 1汪洪1

作者信息

  • 1. 中国建筑材料科学研究总院,北京 100024
  • 折叠

摘要

关键词

薄膜/磁控溅射/钨掺杂氧化镍/电致变色器件

分类

数理科学

引用本文复制引用

孟凡禹,刘静,汪洪..W掺杂NiOx薄膜的制备及全固态电致变色器件的性能[J].材料科学与工程学报,2018,36(6):874-878,5.

基金项目

国家重点研发资助项目(2016YFB0303901),国家科技支撑计划课题资助项目(2015BAA02B01) (2016YFB0303901)

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

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