| 注册
首页|期刊导航|电子器件|杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响

杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响

蔡剑辉 陈治西 刘晨鹤 张栋梁 刘强 俞文杰 刘新科 马忠权

电子器件2018,Vol.41Issue(6):1367-1371,5.
电子器件2018,Vol.41Issue(6):1367-1371,5.DOI:10.3969/j.issn.1005-9490.2018.06.003

杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响

Influence of Impurity Adsorption on Electrical Properties of Back-Gated MoS2 Field Effect Transistors

蔡剑辉 1陈治西 2刘晨鹤 1张栋梁 2刘强 2俞文杰 2刘新科 2马忠权2

作者信息

  • 1. 上海大学物理系,上海200444
  • 2. 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海200050
  • 折叠

摘要

关键词

MoS2背栅场效应晶体管/杂质吸附/不同的扫描条件/回滞窗口/亚阈值斜率

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

蔡剑辉,陈治西,刘晨鹤,张栋梁,刘强,俞文杰,刘新科,马忠权..杂质吸附对背栅MoS2场效应晶体管电学性能的影响[J].电子器件,2018,41(6):1367-1371,5.

基金项目

国家自然科学基金面上项目(61674161) (61674161)

电子器件

OA北大核心CSTPCD

1005-9490

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文